I.4) Auftragsvergabe im Auftrag anderer öffentlicher Auftraggeber Der öffentliche Auftraggeber beschafft im Auftrag anderer öffentlicher Auftraggeber: nein

Abschnitt II: Auftragsgegenstand

II.1) Beschreibung

II.1.1) Bezeichnung des Auftrags durch den öffentlichen Auftraggeber: Lieferung und Installation eines Rasterelektronenmikroskops mit EDX- und EBSD-System sowie Nanoindenter.

II.1.2) Art des Auftrags und Ort der Ausführung, Lieferung bzw. Dienstleistung Lieferauftrag Kauf NUTS-Code DED21

II.1.3) Angaben zum öffentlichen Auftrag, zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen Beschaffungssystem (DBS) Die Bekanntmachung betrifft einen öffentlichen Auftrag

II.1.5) Kurze Beschreibung des Auftrags oder Beschaffungsvorhabens

Das ausgeschriebene Gerätesystem soll im Dresden Center for Nanoanalysis (DCN) der Technischen Universität Dresden installiert und betrieben werden.

Das Ziel der Ausschreibung ist die Beschaffung eines leistungsstarken Rasterelektronenmikroskops mit EDX- und EBSD-System sowie Nanoindenter, wobei Lieferung, Aufstellung, Inbetriebnahme und Einweisung in die Nutzung, Auswertung und Problembehebung eingeschlossen sind. Mit der geplanten Infrastrukturmaßnahme soll im Rahmen des DCN ein Elektronenmikroskop mit Analytik-Zusätzen, die über die reine Abbildung hinausgehen, für die zukunftsorientierte Forschung auf den Gebieten der Mikroelektronik und Nanotechnologien sowie neuer Werkstoffe für Leichtbau, Energie und Umwelt bereitgestellt werden. Bei dem anzuschaffenden Gerätesystem handelt es sich um eine neuartige Kombination aus einem Rasterelektronenmikroskop mit geringer intrinsischer Energiebreite und mit hoher Auflösung bei niedrigen Anregungs-spannungen, sowie mit EDX-System (energiedispersive Röntgenspektroskopie), EBSD-System (Beugung rückgestreuter Elektronen) und in-situ Nanoindenter. Auf diese Weise wird eine umfassende Charakterisierung von Materialien ermöglicht, insbesondere die kinetische Untersuchung von Prozessen in Materialien, Strukturen und Systemen (4D-Analytik).

Mit dem anzuschaffenden Gerätesystem und insbesondere durch die Kombination von Analytik- und Manipulationssystemen werden die Untersuchung von nanoskaligen Funktionswerkstoffen und Strukturen sowie die Lösung anwendungsorientierter Aufgabenstellungen weit über das heute mit der Rasterelektronenmikroskopie übliche Niveau möglich. Mit dem Vorhaben wird eine Infrastruktur geschaffen, die für die High-Tech-Industrie in Sachsen, z. B. für die silizium-basierte Mikroelektronik und die organische Elektronik, aber auch die Leichtbau-Branche, von hohem Nutzen ist.

II.1.6) Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV) 38511100

II.1.7) Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA) Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen (GPA): ja

II.1.8) Lose

Aufteilung des Auftrags in Lose: ja

Angebote sind möglich für ein oder mehrere Lose

II.1.9) Angaben über Varianten/Alternativangebote Varianten/Alternativangebote sind zulässig: nein

II.2) Menge oder Umfang des Auftrags

II.2.1) Gesamtmenge bzw. -umfang:

Lieferung, Installation des Rasterelektronenmikroskops (Los 1) gemäß Leistungsbeschreibung Erstausstattung an Verbrauchsmaterial, Zubehör und Ersatzteile gemäß der technischen Spezifikation 2-tägige Vor-Ort-Schulung optional: Wartungsvertrag für 2 Jahre Lieferung, Installation des EDX/EBSD Systems (Los 2) gemäß Leistungsbeschreibung 2-tägige Vor-Ort-Schulung EDX/EBSD optional: Wartungsvertrag für 2 Jahre EDX/EBSD Lieferung, Installation des Indenter-Systems (Los 3) gemäß Leistungsbeschreibung und der angebotenen technischen Spezifikation 2-tägige Vor-Ort-Schulung Indenter optional: Wartungsvertrag für 2 Jahre Indenter. Geschätzter Wert ohne MwSt: 815 000 EUR

II.2.2) Angaben zu Optionen

Optionen: ja

Beschreibung der Optionen: Wartungsleistungen für zwei Jahre. Voraussichtlicher Zeitplan für den Rückgriff auf diese Optionen: in Monaten: 12 (ab Auftragsvergabe)

II.2.3) Angaben zur Vertragsverlängerung Dieser Auftrag kann verlängert werden: nein

II.3) Vertragslaufzeit bzw. Beginn und Ende der Auftragsausführung Beginn 2.3.2015. Abschluss 31.3.2015 Angaben zu den Losen

Los-Nr: 1

Bezeichnung: Rasterelektronenmikroskop

1) Kurze Beschreibung

Das REM soll folgende Auflösung erreichen: < 0.7 nm für den gesamten Bereich der Anregungsspannung von 1 kV – 30 kV, < 1.2 nm im Bereich von 0.2 kV – 1 kV. Das Gerät soll über die Möglichkeit der hochauflösenden Abbildung mit niedrigen Landeenergien verfügen. Eine Reduktion der Landeenergien bis hinunter zu 50eV soll bei Primärenergien von bis zu 4keV möglich sein. Das Gerätesystem soll über die Option STEM-Mode verfügen. Für den STEM-Mode soll eine Auflösung < 0.7 nm bei 30 kV erreicht werden. Dabei soll Abbildung im Hellfeld (BF), Dunkelfeld (DF) und Hochwinkeldunkelfeld (HAADF) möglich sein. Das Gerätesystem soll über Kammer und In-lens Detektoren für die Abbildung mittels Sekundär- sowie Rückstreuelektronen verfügen. Insbesondere soll die Abbildung mittel Niedrigverlust-, hochwinkelgestreuten Rückstreuelektronen möglich sein. Das Gerät soll die simultane Abbildung mit mehreren Detektoren gleichzeitig ermöglichen. Die Pixelauflösung der aufgenommenen Bilder soll bis zu mindestens 20MP einstellbar sein Für die Abbildung schlecht leitfähiger Proben sollen kurze Strahlverweilzeiten von weniger als 100ns pro Bildpunkt erreicht werden. Für die Elementanalyse mittels EDX oder EBSD sollen auch hohe Strahlströme (>50nA) möglich sein, um effiziente Kartierungen zu ermöglichen. Wegen der kleinen Probengeometrie für künftige elektronische Strukturen und für die Beobachtung kinetischer Prozesse in mikroelektronischen Bauelementen ist eine automatische Drift-Korrektur mit hoher Genauigkeit im Nanometerbereich erforderlich. Wegen der geplanten Verwendung für EDS/EBSD Karten soll der Probentisch eine Reichweite von mindestens 100mm mit weniger als 100nm Schrittweite und hoher Reproduzierbarkeit erreichen. Zur Optimierung der Nutzungszeit soll das Gerät über eine automatische Justierung verfügen. Das Gerätesystem verfügt über einen integrierten Plasma Cleaner, um zeitsparend die nötige Sauberkeit der Proben zu gewährleisten. Speziell bei der Verwendung von niedrigen Beschleu-nigungsspannungen < 3 kV kann es zu verminderter Bildqualität durch Verschmutzungen der Probenoberflächen kommen. Das Gerät soll über eine Möglichkeit verfügen, eine grobe Probenpositionierung mittels optischer Abbildung vorzunehmen um effizient bestimmte Probenbereiche mittels REM abzubilden. Das Gerät sollte über eine Kammerkamera verfügen, um die Position der Probe sowie diverse Detektoren (EDS, EBSD-Schirm) in Echtzeit überwachen zu können, um eine Beschädigung am Gerät zu vermeiden. Das Gerätesystem soll über Erweiterungsports verfügen, die es ermöglichen ein EDS sowie ein EBSD System zu installieren. Des Weiteren soll das System über mindestens einen zusätzlichen Port verfügen, der eine elektrische Durchführung für einen in situ Indenter ermöglicht. Der Energieverbrauch soll so gering wie möglich sein. Unter normalen Betriebsbedingungen des Gerätes soll der max. Energieverbrauch bei 1,6 kW liegen, mit Spitzen bis auf 2,4 kW.

2) Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV) 38511100

3) Menge oder Umfang 1 Stück Rasterelektronenmikroskop. Geschätzter Wert ohne MwSt: 457 000 EUR

4) Abweichung von der Vertragslaufzeit oder vom Beginn bzw. Ende des Auftrags Beginn 2.3.2015. Abschluss 31.3.2015

Los-Nr: 2

Bezeichnung: EDX-Analyse und EBSD-Analyse für ein Rasterelektronenmikroskop

1) Kurze Beschreibung

Das EDX System soll eine Energieauflösung von mindestens 127eV bei Mn Ka und mindestens 56eV bei C Ka erreichen Der EDX Detektor sollte einen möglichst großen Raumwinkel, mindestens jedoch 0.08sr abdecken Das EDX System sollte Elemente ab Be(Z=4) detektieren können, sowie die Si Ll, Al Ll Linien detektieren Der Detektor sollte Peltier-gekühlt sein. Das EBSD System sollte eine hochauflösende Kamera (>1MP) mit hoher Empfindlichkeit besitzen Das System soll eine möglichst hohe Geschwindkeit bei der Musteraufnahme besitzen, mindestens jedoch 100 Muster/s. Das System soll für die Anwendung bei niedrigen Beschleunigungsspannungen (=5kV) und niedrigen Strahlströmen (=100pA) geeignet sein. Das System soll für in-situ Untersuchungen (z.B. Heizen, mechanische Beanspruchung der Probe) geeignet sein. Das System soll die sowohl für die Verwendung im EBSD als auch im TKD Modus verwendbar sein. Das System soll über Detektoren für vorwärts und rückgestreute Elektronen verfügen. Wegen der kleinen Probengeometrie für künftige elektronische Strukturen und für die Beobachtung kinetischer Prozesse in mikroelektronischen Bauelementen ist eine automatische Drift-Korrektur mit hoher Genauigkeit im Nanometerbereich erforderlich. Wegen der geplanten Verwendung für EDS/EBSD Karten soll das System sowohl den Elektronenstrahl als auch den Probentisch steuern können. Zur Optimierung der Nutzungszeit soll das Gerät über eine automatische Justierung und Kalibrierung verfügen. Das Gerät soll über eine Möglichkeit verfügen, simultan zur Analyse eine Abbildung mittels Detektoren des REM zu ermöglichen. Das Gerät sollte eine einstellbare Entfernung des Phosphorschirms ermöglichen sowie einen komplett rückziehbaren Phosphorschirm besitzen. Das System soll eine korrelative und zeitgleiche EDX/EBSD Analyse ermöglichen. Die Software soll sowohl die Steuerung des Systems als auch des Elektronenstrahls und Probentisches übernehmen. Für EDS Analysen soll die Software eine vollständige Quantifizierung, auch in Echtzeit, ermöglichen. Die Software soll in der Lage sein, Punkt- und Linienanalysen sowie eine Kartierung der Elementverteilung durchzuführen. Die Software soll Summensignale (pile-up) automatisch korrigieren sowie überlappende Signale trennen können (peak dekonvolution) Die Software soll automatisch eine Indizierung der Orientierung sowie deren Kartierung vornehmen können. Analysesoftware soll es ermöglichen, Polfiguren und inverse Polfiguren abzubilden, sowie Phasenverteilungen, (Fehl-)orientierungen, Korn- und Phasengrenzen sowie Verformungen/Spannungszustände in 2D Karten darzustellen Der Zugang zu einer Strukturdatenbank sowie zu einer Datenbank für Energielinien für die automatisierte Auswertung von EDS-Spektren und EBSD Mustern.

2) Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV) 38511100

3) Menge oder Umfang EDX-Analyse EBSD-Analyse. Geschätzter Wert ohne MwSt: 125 500 EUR

4) Abweichung von der Vertragslaufzeit oder vom Beginn bzw. Ende des Auftrags Beginn 2.3.2015. Abschluss 31.3.2015

Los-Nr: 3

Bezeichnung: Indenter für ein Rasterelektronenmikroskop

1) Kurze Beschreibung

Der Indenter sollte in situ Untersuchungen im REM und FIB/REM ermöglichen, insbesondere Indentation, Zugversuche sowie Scherversuche. Das System sollte über einen kapazitativen, vakuumtauglichen Wandler mit Rückkopplungsmöglichkeit verfügen, der einen Austausch der Testkörper vorsieht. Das System sollte rauscharm und hochauflösend sein. Dabei darf das Lastrauschen 400nN nicht überschreiten. Das Positionsrauschen sollte 1nm nicht überschreiten. Das System sollte eine simultane elektrische Charakterisierung ermöglichen. Die Mindestanforderungen sind ein Spannungsbereich von 10µV…10V sowie Ströme von 20pA…10mA. Dabei sollte das Rauschen 10µV bzw. 20pA im empfindlichsten Messbereich nicht überschreiten. Die Abtastrate sollte mindestens 1kHz betragen. Das System sollte auf verschiedene Probengeometrien, insbesondere Probendicken adaptierbar sein. Für die 3D Analyse soll das System neben 3 Achsen (x,y,z) über entsprechende Kipp und Rotationsachsen verfügen, die eine flexible Nutzung im FIB/REM unter Ausschöpfung der vollen Analysemöglichkeiten erlaubt. Das System sollte mit einem Dia-manttestkörper Würfelecke (<50nm Krümmungsradius) sowie einem elektrisch leitfähigen Testkörper (Würfelecke) ausgestattet sein. Wegen der kleinen Probengeometrie für künftige elektronische Strukturen und für die Beobachtung kinetischer Prozesse in mikroelektronischen Bauelementen ist eine automatische Drift-Korrektur mit hoher Genauigkeit im Nanometerbereich erforderlich. Die Steuerung sollte über Software geschehen, die sowohl die Wandler als auch den Probentisch umfasst. Dabei soll sowohl rückgekoppelte (closed-loop) als auch nicht rückgekoppelte (open-loop) Steuerung möglich sein. Die Software soll die Steuerung des Systems übernehmen. Die Software soll es ermöglichen, Position und Kraft in Echtzeit auszulesen, die Stärke der Rückkopllung einzustellen sowie Zeit-Kraft-Funktionen frei zu programmieren. Die Software sollte über einen Notaus verfügen, um Beschädigungen des Systems, der Probe oder des REM zu verhindern. Die Software soll es ermöglichen die Aufnahme von SEM Videos und die Operation des Systems zu synchronisieren.

2) Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV) 38511100

3) Menge oder Umfang 1 Stück Indenter. Geschätzter Wert ohne MwSt: 232 500 EUR

4) Abweichung von der Vertragslaufzeit oder vom Beginn bzw. Ende des Auftrags Beginn 2.3.2015. Abschluss 31.3.2015

Abschnitt III: Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Angaben

III.1) Bedingungen für den Auftrag

III.1.2) Wesentliche Finanzierungs- und Zahlungsbedingungen und/oder Verweis auf die maßgeblichen Vorschriften: Gemäß Vergabeunterlagen.

III.1.3) Rechtsform der Bietergemeinschaft, an die der Auftrag vergeben wird: Gesamtschuldnerisch haftend mit bevollmächtigtem Vertreter.

III.1.4) Sonstige besondere Bedingungen Für die Ausführung des Auftrags gelten besondere Bedingungen: nein

III.2) Teilnahmebedingungen

III.2.1) Persönliche Lage des Wirtschaftsteilnehmers sowie Auflagen hinsichtlich der Eintragung in einem Berufs- oder Handelsregister Angaben und Formalitäten, die erforderlich sind, um die Einhaltung der Auflagen zu überprüfen: A) Nachweis, dass das Unternehmen im Berufs- oder Handelsregister seines Herkunftslandes eingetragen ist. Die Vorlage einer Kopie aus dem Handelsregister genügt.

B) Eine Erklärung der Stelle, die das Insolvenzregister führt, oder - in Ermangelung solcher - eine gleichwertige Bescheinigung einer Gerichts- oder Verwaltungsbehörde des Ursprungs- oder Herkunftslandes des Unternehmens, aus der hervorgeht, dass für das Unternehmen nicht einer der genannten Ausschlussgründe nach § 6 EG Absatz 6 VOL/A vorliegt.

III.2.2) Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit Angaben und Formalitäten, die erforderlich sind, um die Einhaltung der Auflagen zu überprüfen: C) Bankauskunft: Erklärung der Hausbank über die bestehende Geschäftsbeziehung. In den Erklärungen sollte insbesondere die gegenwärtige Finanz- und Liquiditätslage des Unternehmens dargestellt werden. Aktualität der Erklärung: nicht älter als drei Monate.

D) Gesamtumsatz der letzten drei Geschäftsjahre des Unternehmens.

III.2.3) Technische Leistungsfähigkeit Angaben und Formalitäten, die erforderlich sind, um die Einhaltung der Auflagen zu überprüfen:

E) Angaben über die wesentlichen in den letzten drei Jahren erbrachten Leistungen (Referenzliste).

F) Eigenerklärung zu den angegebenen Referenzen Grundsätzlich sollte der Name und die Anschrift des jeweiligen Auftraggebers der Referenzleistung, eine Beschreibung der erbrachten Leistung nach Art, Umfang und Wert, den Leistungszeitraum sowie eine kurze Bewertung der erbrachten Leistung enthalten. Darüber hinaus ist die Angabe einer Ansprechperson für Rückfragen beim Referenzauftraggeber vorteilhaft. Abschnitt IV: Verfahren

IV.1) Verfahrensart

IV.1.1) Verfahrensart Offen

IV.2) Zuschlagskriterien

IV.2.1) Zuschlagskriterien das wirtschaftlich günstigste Angebot in Bezug auf die Kriterien, die in den Ausschreibungsunterlagen, der Aufforderung zur Angebotsabgabe oder zur Verhandlung bzw. in der Beschreibung zum wettbewerblichen Dialog aufgeführt sind

IV.3) Verwaltungsangaben

IV.3.1) Aktenzeichen beim öffentlichen Auftraggeber: 015001/15

IV.3.2) Frühere Bekanntmachung(en) desselben Auftrags nein

IV.3.3) Bedingungen für den Erhalt von Ausschreibungs- und ergänzenden Unterlagen bzw. der Beschreibung Kostenpflichtige Unterlagen: nein

IV.3.4) Schlusstermin für den Eingang der Angebote oder Teilnahmeanträge 2.3.2015 - 14:00

IV.3.6) Sprache(n), in der (denen) Angebote oder Teilnahmeanträge verfasst werden können Deutsch.

IV.3.7) Bindefrist des Angebots bis: 31.3.2015

IV.3.8) Bedingungen für die Öffnung der Angebote Personen, die bei der Öffnung der Angebote anwesend sein dürfen: nein

Abschnitt VI: Weitere Angaben

VI.1) Angaben zur Wiederkehr des Auftrags Dies ist ein wiederkehrender Auftrag: nein

VI.2) Angaben zu Mitteln der Europäischen Union Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der Europäischen Union finanziert wird: ja Angabe der Vorhaben und/oder Programme: Diese Beschaffungsmaßnahme wird aus Mitteln des Europäischen Fonds für regionale Entwicklung (EFRE) finanziert.

VI.4) Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren

VI.4.1) Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren Vergabekammer des Freistaates Sachsen bei der Landesdirektion Leipzig Braustraße 2 04107 Leipzig DEUTSCHLAND E-Mail: vergabekammerldl.sachsen.de Telefon: +49 3419771402 Internet: http://http://www.ldl.sachsen.de Fax: +49 3419772049

VI.4.2) Einlegung von Rechtsbehelfen Genaue Angaben zu den Fristen für die Einlegung von Rechtsbehelfen: Rechtsbehelfe gemäß § 107 GWB:

(1) Die Vergabekammer leitet ein Nachprüfungsverfahren nur auf Antrag ein.

(2) Antragsbefugt ist jedes Unternehmen, das ein Interesse am Auftrag hat und eine Verletzung in seinen Rechten nach § 97 Abs. 7 durch Nichtbeachtung von Vergabevorschriften geltend macht. Dabei ist darzulegen, dass dem Unternehmen durch die behauptete Verletzung der Vergabevorschriften ein Schaden entstanden ist oder zu entstehen droht.

(3) Der Antrag ist unzulässig, soweit

1. der Antragsteller den gerügten Verstoß gegen Vergabevorschriften im Vergabeverfahren erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht unverzüglich gerügt hat,

2. Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, nicht spätestens bis Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Angebotsabgabe oder zur Bewerbung gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,

3. Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Angebotsabgabe oder zur Bewerbung gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,

4. mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind.

VI.4.3) Stelle, die Auskünfte über die Einlegung von Rechtsbehelfen erteilt Technische Universität Dresden 01062 Dresden DEUTSCHLAND E-Mail: mailto: beschaffung@tu-dresden.de Telefon: +49 35146334223 Internet: http://http://tu-dresden.de Fax: +49 35146337102

VI.5) Tag der Absendung dieser Bekanntmachung: 14.1.2015

▲

Veröffentlichung

Geonet Ausschreibung 11709 vom 19.01.2015